AQUALINE TETRA SERIES OF SEAWATER REVERSE OSMOSIS SYSTEMS

100 m3 / day to 1500 m3 / day

The process of membrane filtration to obtain pure water, which separates all unwanted minerals from the water applied to waters in which conventional treatment systems are insufficient (sea water, high conductivity water, well water, etc.), is called reverse osmosis.

STANDARD CHARACTERISTICS

FRP membrane vessels

TFC spiral wound membranes 8 "diameter

AISI304 или AISI316 Dublex качествена помпа с високо налягане от неръждаема стомана

Шаси St37 Епоксидно боядисана въглеродна стомана или AISI304 неръждаема стомана

Филтър за прецизна касета с 5 микрона

Линия за ниско налягане U-PVC PN16

Линия за високо налягане AISI316Ti или Dublex Неръждаема стомана 

Електрически задействан дроселен клапан

Превключвател за ниско и високо налягане

Разходомери за чиста и отпадъчна вода

Глицеринови манометри

Индикатор за водопроводимост на продукта (0-2000µS / cm)

Измервател на рН на водата на входа и продукта (по избор)

Превключвател за включване / изключване

Лампи за аларма и състояние 380 V / 50Hz / 3ph

IP56 контролен панел

ПРЕПОРЪЧИТЕЛНИ ПАРАМЕТРИ НА ВХОДЯЩАТА ВОДА

Входяща вода TDS: 38 000 - 41 000 ppm

Работно налягане: между 50 и 70 бара

Налягане на входящата вода: 2 до 5 бара

Диапазон на рН на входящата вода: 6 - 8

Силициев диоксид (SiO2) Толеранс 25 ppm макс. @ 60% ефективност

Макс. Температура на входящата вода = 30º C Макс.

Максимален толеранс на желязо (Fe) 0,05 ppm, дозировка за антискалант 0,2 ppm, ако е налична

Водороден сулфид не трябва да присъства.

Не трябва да има мътност. (NTU <1)

SDI <5

Микробиологичното замърсяване трябва да бъде премахнато.

МЕМБРАННИ ПОЧИСТВАЩИ ХИМИКАЛИ

Най-често срещаните химикали, използвани за почистване на мембраните, са на киселина и на основи. Киселинните почистващи препарати са предназначени за отстраняване на неорганични и железни отлагания и се извършват при pH около 2-3. Алкалните почистващи препарати са предназначени за отстраняване на биологични вещества, органични замърсители и отлагания на силициев диоксид и се извършват при рН около 10-11.

MEMBRANE CLEANING PROCEDURE

The reverse osmosis membrane may experience a decrease in productivity due to the accumulation of deposits on the membrane surface. Usually the mineral scale, colloidal particles, biological substances and insoluble organic compounds are the reasons for the formation of membranes. When the production flow drops by at least% 15 or the differential pressure increases by% 15 under normal operating conditions, the diaphragm must be cleaned. For more information, see the operating instructions.